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物理学毕业论文提纲范文

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  物理学毕业论文提纲范文(1)

  摘要 6-8

  ABSTRACT 8-9

  目录 10-12

  1 绪论 12-18

  1.1 选题背景及研究意义 12-14

  1.1.1 选题背景 12-14

  1.1.2 研究意义 14

  1.2 研究内容及结构安排 14-16

  1.2.1 研究内容 14-15

  1.2.2 结构框架 15-16

  1.3 本文的创新点与不足之处 16-18

  2 国内外研究综述 18-28

  2.1 非审计服务的效果及公司绩效 18-22

  2.1.1 非审计服务与独立性 18-19

  2.1.2 非审计服务的其他影响 19-20

  2.1.3 公司绩效评价及其影响因素 20-22

  2.2 影响非审计服务需求因素的相关文献 22-23

  2.3 高管特征相关文献 23-26

  2.3.1 高阶理论及高管人力资本特征 24-25

  2.3.2 代理理论与高管薪酬激励 25-26

  2.4 本章小结 26-28

  3 理论分析及应用 28-35

  3.1 本文相关定义 28-29

  3.1.1 非审计服务的范围界定 28

  3.1.2 高级管理者的定义 28-29

  3.1.3 高管特征的界定 29

  3.2 非审计服务与公司绩效 29-32

  3.2.1 非审计服务影响公司绩效的理论解释 29-30

  3.2.2 公司绩效的衡量 30-32

  3.3 高管特征影响企业购买非审计服务的理论分析 32-34

  3.3.1 基于高阶理论和人力资本理论的解释 32-33

  3.3.2 基于代理理论、激励理论和薪酬理论的解释 33-34

  3.4 本文的理论框架 34-35

  4 研究设计 35-45

  4.1 论证逻辑与研究假设 35-41

  4.1.1 非审计服务对企业绩效的影响 35-37

  4.1.2 高管特征对非审计服务需求的影响 37-39

  4.1.3 非审计服务对审计师独立性的影响 39-41

  4.2 变量设计与模型的构建 41-43

  4.2.1 假设1的模型与变量说明 41-42

  4.2.2 假设2的模型与变量说明 42-43

  4.3 样本选取与数据来源 43-45

  5 实证分析 45-54

  5.1 描述性统计分析 45-46

  5.2 非审计服务对公司绩效影响的实证结果分析 46-48

  5.3 高管特征对非审计服务需求影响的实证结果分析 48-51

  5.4 稳健性检验 51-52

  5.5 非审计服务是否会影响审计师独立性的实证结果分析 52-54

  6 研究结论及政策建议 54-56

  6.1 研究结论 54

  6.2 政策建议 54-56

  参考文献 56-59

  物理学毕业论文提纲范文(2)

  摘要 5-6

  Abstract 6

  第一章 绪论 9-14

  第二章 非平衡态热力学概论 14-29

  2.1 前言 14-16

  2.2 经典非平衡热力学 16-20

  2.3 扩展的非平衡热力学 20-23

  2.4 内变量热力学 23-27

  2.5 小结 27-29

  第三章 颗粒体系的非平衡热力学 29-39

  3.1 颗粒体系的内能 29-30

  3.2 耗散力与耗散流及其相关约束 30-32

  3.3 守恒量与熵增加方程 32-33

  3.4 弹性能和涨落动能的确定 33-34

  3.5 弹性应变的运动方程 34

  3.6 应力应变表达式 34-36

  3.7 完整的 GSH 方程组 36-39

  第四章 颗粒体系的双温标模型 39-50

  4.1 引言 39-41

  4.2 颗粒温度 41-42

  4.3 能量转换 42-43

  4.4 态变量和热力学基本方程 43-45

  4.5 熵产生率 45-46

  4.6 弹性应变的运动方程 46

  4.7 守恒方程和熵增加方程 46-47

  4.8 宏观量的表达式 47-50

  第五章 双温标模型在简单剪切流中的应用 50-59

  5.1 前言 50-51

  5.2 弹性能函数 51-52

  5.3 迁移系数的简化 52-53

  5.4 结果分析与讨论 53-57

  5.5 小结 57-59

  结论 59-62

  参考文献 62-64

  物理学毕业论文提纲范文(3)

  摘要 5-7

  Abstract 7-9

  目录 10-14

  第1章 绪论 14-32

  1.1 课题研究背景及意义 14

  1.2 常用非球面加工技术简介 14-20

  1.2.1 计算机控制表面成形技术(CCOS) 15-16

  1.2.2 应力盘抛光技术 16-17

  1.2.3 气囊抛光技术 17-18

  1.2.4 离子束抛光技术 18-19

  1.2.5 磁流变抛光技术 19-20

  1.3 磁流变液的研究和应用现状 20-25

  1.3.1 磁流变液的发展与应用简介 20-22

  1.3.2 磁流变液的研究现状 22-25

  1.4 磁流变抛光技术的研究现状 25-30

  1.4.1 磁流变抛光原理 25-26

  1.4.2 磁流变抛光液的研究现状 26-27

  1.4.3 磁流变抛光设备的研究现状 27-28

  1.4.4 磁流变抛光的材料去除模型 28-30

  1.5 本论文的主要研究内容 30-32

  第2章 磁流变抛光液研制及性能测试 32-64

  2.1 概述 32

  2.2 磁流变抛光液的分散稳定机理 32-36

  2.2.1 静电排斥理论—DLVO理论 33-34

  2.2.2 空间排斥理论—HVO理论 34-35

  2.2.3 磁流变抛光液中铁磁颗粒沉降性问题 35-36

  2.3 磁流变抛光液的配制研究 36-48

  2.3.1 磁流变抛光液的性能要求 36

  2.3.2 磁流变抛光液成分的选择 36-42

  2.3.3 磁流变抛光液的配制工艺流程 42-48

  2.4 磁流变抛光液的性能检测 48-55

  2.4.1 磁流变抛光液的分散稳定性检测 48-50

  2.4.2 磁流变抛光液的零磁场粘度检测 50-52

  2.4.3 磁流变抛光液的剪切屈服应力检测 52-54

  2.4.4 去除函数实验 54-55

  2.5 磁流变抛光液的性能优化 55-62

  2.5.1 磁流变抛光液的分散体系特性 56-57

  2.5.2 絮凝型磁流变抛光液 57-58

  2.5.3 去除函数实验 58-62

  2.6 本章小结 62-64

  第3章 磁流变抛光循环控制系统及其对去除函数的影响 64-86

  3.1 概述 64

  3.2 磁流变抛光设备主要结构形式 64-68

  3.2.1 平置式磁流变抛光结构 64-66

  3.2.2 正置式磁流变抛光结构 66-67

  3.2.3 倒置式流变抛光结构 67-68

  3.3 磁流变抛光循环控制系统 68-73

  3.3.1 磁流变抛光设备的主要结构 68-69

  3.3.2 循环系统的主要部件 69-72

  3.3.3 控制模块的主要部件 72-73

  3.4 温度变化对去除函数的影响 73-77

  3.4.1 温度变化对粘度的影响 73-74

  3.4.2 温度变化对流量的影响 74-75

  3.4.3 温度变化对去除函数的影响 75-77

  3.5 粘度变化对去除函数的影响 77-81

  3.5.1 铁粉颗粒含量对磁流变抛光液粘度的影响 77-79

  3.5.2 粘度变化对去除函数的影响 79-81

  3.6 去除函数稳定性测试 81-85

  3.7 本章小结 85-86

  第4章 工艺参数对工件受力和去除函数的影响 86-124

  4.1 概述 86

  4.2 实验细节描述 86-89

  4.2.1 测量设备 87-88

  4.2.2 抛光材料 88-89

  4.3 压入深度与工件受力和去除函数的关系 89-102

  4.3.1 BK7 玻璃 91-96

  4.3.2 RB-SiC陶瓷材料 96-101

  4.3.3 压入深度h0过大对去除函数的影响 101-102

  4.4 抛光液成分对工件受力和去除函数的影响 102-119

  4.4.1 铁粉颗粒含量的影响 102-107

  4.4.2 铁粉粒径的的影响 107-113

  4.4.3 抛光粉含量的影响 113-119

  4.5 材料去除效率与工件受力的关系 119-123

  4.5.1 正压力和压强与材料去除效率关系 119-121

  4.5.2 剪切力和剪切应力与材料去除效率关系 121-123

  4.6 本章小结 123-124

  第5章 碳化硅及改性硅表面的磁流变抛光 124-149

  5.1 概述 124

  5.2 碳化硅材料的磁流变抛光 124-126

  5.2.1 碳化硅的材料特性 124-125

  5.2.2 常用碳化硅材料的比较 125-126

  5.3 RB-SiC的磁流变抛光 126-138

  5.3.1 RB-SiC的材料去除机理 126-130

  5.3.2 RB-SiC的粗糙度 130-133

  5.3.3 RB-SiC材料的实际抛光 133-138

  5.4 RB-SiC基底改性硅表面的磁流变抛光 138-148

  5.4.1 碳化硅材料的改性 138-140

  5.4.2 改性硅的磁流变抛光 140-148

  5.5 本章小结 148-149

  第6章 总结与展望 149-151

  6.1 总结 149-150

  6.2 论文创新点 150

  6.3 工作展望 150-151

  参考文献 151-159

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